[研究筆記] 研究方向

本研究分為兩階段實行：

1. 建立簡化模型，並以分子模擬方法驗證
2. 探討不同因子對雷射鑽孔結果影響，並以以實驗設計方法建立回歸模型

首先，通過分子模擬法(套軟or自寫)，測試完整與簡化模型再同樣雷射穿擊條件下，其模擬結果是否相同或具有相關性。若然，則進行第二步驟；進行不同深度的模擬，以不同雷射條件進行模擬並研究雷射條件與通孔深度、殘留應力、溫度變化等關係；並以實驗設計方法建立回歸模型，以利日後研究或工業應用。


第零周(09/09 ~ 09/13)工作：
除開始撰寫論文之簡介、動機、文獻回顧與大綱之外，盡速尋找模擬工作需之條件

1. 模擬尺度：尺寸、數量、時間、溫度、壓力
2. 原子排列：排列座標、間隔距離
3. 勢能函數：原子互動之勢能
4. 雷射機制：雷射光斑大小、動能轉換之機制、反射作用

並著手以最小薄層進行第一次模擬，目的是為了驗證軟體可作用，若時間允許則再進行簡化模型的模擬。

09/13 (五) 跟老師討論，報告工作成果